技术
SiGe
高速、低噪音、功耗
随着移动体验不断演进、数据中心带宽需求持续增长,市场对兼顾能效与性能的解决方案需求空前高涨。通过将 SiGe 异质结双极晶体管(HBT)与 CMOS(BiCMOS)相结合,我们的 SiGe 技术可提供高电压摆幅、高输出功率和卓越的信号完整性。
以合理的成本实现业界领先的性能
凭借数十年的创新积累,我们正充分释放SiGe潜力,提供经过硅基验证的工艺技术,为无线、光通信和基础设施市场的高性能射频设计树立了行业标杆。
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迄今为止已出货超过40亿颗芯片
在经过硅片验证的大规模SiGe 及制造领域展现出领先地位
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按您所需的规模进行生产
我们在美国和新加坡的工厂均可提供300毫米和200毫米规格的大批量生产服务
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已支持 200G/λ
专为支持 200G/λ 而设计的高性能 (HP) 速度与技术特性
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在成本与性能方面进行了优化
模块化技术和功能可为多个市场提供解决方案,满足从成本到性能的各类需求
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ft/fmax > 400GHz 的SiGe
业界SiGe ,具备增强的模拟性能和带宽,适用于高频射频和毫米波应用
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在降低功耗的同时提升性能
可降低低噪声放大器(LNA)功耗,并为光电积分放大器(TIA)和驱动器提供最高增益
高性能SiGe
我们提供种类繁多的SiGe 组合,其性能指标均处于行业领先水平。通过模块化设计,我们助您灵活组合性能、集成度与成本,以最契合您的应用需求。
作为业内首项互补型双极技术,我们的 CBIC 技术实现了 NPN 和 PNP HBT 的先进集成,市场领先的 ft 值分别超过 400 GHz 和 200 GHz,从而能够以较低直流功耗实现高速模拟放大器和低噪声放大器。
我们的 HPS 技术(包括成熟的 8HP/8XP 技术以及最新一代的 9HP/HP+ 技术)专为超高频和低噪声工作而优化,可为要求严苛的射频、毫米波和高速模拟应用提供卓越的速度、带宽和信号完整性,同时支持在经济高效的硅基平台上实现高密度射频与数字集成。
我们的高压SiGe 专为实现更大的电压摆幅、更高的可靠性和更大的输出功率而设计,能够支持在无线基础设施和连接市场中实现性能、稳健性和集成度之间平衡的应用。
利用SiGe 硅光子学扩展数据中心传输能力
我们的硅光子学和SiGe 所实现的光互连方案,相比铜缆具有更高的数据传输速率、更低的延迟以及显著更高的能效。这些平台能够支持人工智能集群和大规模云部署所需的高带宽链路。通过在单一平台上集成光子学、射频和CMOS技术,我们实现了在现代数据中心架构中更快、更高效的数据传输。
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