Leistungsstarke, skalierbare photonische Lösungen
Unsere Siliziumphotonik-Technologien bieten die Leistung, die Bandbreitenskalierbarkeit und die Energieeffizienz, die für heutige Steckmodule und CPO-Architekturen der nächsten Generation erforderlich sind.
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Bewährt bis 200 G/λ, klarer Weg zu 400 G/λ
Bandbreitenerweiterungen, die für anspruchsvolle Rechenzentrumsarchitekturen und KI-/ML-Cluster optimiert sind
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Schlüsselfertige Designunterstützung
Durch unsere qualifizierten Plattformen, PDKs, Referenzabläufe und ein bewährtes Partner-Ökosystem – für eine schnellere Entwicklung, die auf Anhieb richtig ist, und eine reibungslose Serienfertigung
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Präsentation athermaler CWDM-Filter
With <1dB insertion loss, <0.2dB passband ripple and <-30dB crosstalk. Reliable, low-loss optical links with reduced signal degradation for low-latency, energy-efficient interconnects. Intrinsic EMI immunity helps minimize crosstalk and preserve signal integrity (*design dependent)
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8/λ und 16/λ bidirektionales DWDM
Wir sind die einzige 300-mm foundry auf unserer Plattform nativ bidirektionale 8λ- und 16λ-DWDM-Filter demonstriert hat; dWDM-Filter mit einem Kanalabstand von 100–400 GHz sind verfügbar
Wir stellen unsere SCALE™ CPO-Lösung vor
Unser SCALE™ CPO-Lösung ist die branchenweit erste OCI-MSA-fähige Plattform, die die Anforderungen der Verbindungsspezifikation für moderne skalierbare KI-Architekturen übertrifft. Diese auf fortschrittlicher Siliziumphotonik basierende, zukunftssichere Lösung kombiniert integrierte photonische Bauelemente, CWDM und DWDM sowie fortschrittliche Gehäusetechnologie, um die Bandbreitendichte und die Skalierbarkeit des Systems – im Vergleich zu herkömmlichen Kupferverbindungen – für optische Rechenverbindungen der nächsten Generation zu verbessern.
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Glasfaseranschluss und optische Skalierbarkeit
Breitband-abtrennbare Fasern mit gleichbleibendem Einfügedämpfungsverlust über das gesamte CWDM-Spektrum, um eine zukunftssichere Skalierung von 4λ in jede Richtung auf 8λ und darüber hinaus zu ermöglichen und gleichzeitig die Wartungsfreundlichkeit sowie die Testbarkeit auf „Known-Good-Die“-Basis für KI-Verbindungen der nächsten Generation zu gewährleisten
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Stärke des Photonik-Portfolios
Ein umfassendes Portfolio an voll qualifizierten photonischen Bauelementen, darunter 50-Gbit/s- und 100-Gbit/s-Mikroringmodulatoren, gekoppelte Ringresonatoren und integrierte Fotodioden
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Ermöglichung fortschrittlicher Verpackungslösungen
Unterstützung von TSVs für Hochgeschwindigkeits-Signalübertragung, power und Kupferpad-Abstände von 110 µm bis unter 45 µm für 2,5/3D-Stapelung von organischen Substraten auf Silizium-Interposern
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Elektronisch-photonische Integration
Integriert elektrische ICs auf fortschrittlichen Fertigungsprozessen im einstelligen Bereich, um erstklassige Rechenleistung und modernste Optik zu optimieren, ohne dabei Kompromisse bei der Leistung einzugehen
Silikonphotonik auf einen Blick
Nutzen Sie unsere führende Prozesstechnologie im Bereich der Siliziumphotonik, um skalierbare Rechenzentrumsarchitekturen zu realisieren, die genau auf Ihre Anforderungen hinsichtlich Datenkapazität und Glasfaserauslastung zugeschnitten sind.
Unsere weit verbreitete Siliziumphotonik-Prozesstechnologie der ersten Generation bietet serienerprobte Massenfertigungskapazitäten für Übertragungsraten von bis zu 100 Gbit/s pro Wellenlänge. Durch die Unterstützung flexibler Kanalabstände (100–400 GHz) und einer Bandbreite von 55 GHz ist diese Prozesstechnologie darauf optimiert, fortschrittliche Modulationsverfahren für Hochgeschwindigkeitsverbindungen und skalierbare Rechenzentrumsnetzwerke zu ermöglichen.
Unsere Siliziumphotonik-Technologie der zweiten Generation, die sich bei bis zu 200 G/λ bewährt hat und über erhebliche Bandbreitenerweiterungen (>65 GHz), einen Kanalabstand von 200 GHz sowie Optimierungen für fortschrittliche Modulationsformate verfügt, bietet die doppelte Bandbreite pro Wellenlänge und unterstützt damit die wachsenden Anforderungen von Rechenzentren sowie KI-/ML-Architekturen.
Unsere Siliziumphotonik-Prozesstechnologie der nächsten Generation bietet einen klaren Weg zu 400G/λ und ist für den großflächigen Einsatz in Rechenzentrumsarchitekturen optimiert. Ein früher Zugang ist ab sofort möglich – kontaktieren Sie uns, um Möglichkeiten der gemeinsamen Entwicklung mit GF zu erkunden.
Mit Siliziumphotonik eine neue Ära der Datenübertragung einläuten
Milliarden vernetzter Geräte und power steigende power von Rechenzentren erfordern innovative Lösungen, mit denen Daten schneller und effizienter übertragen werden können als mit herkömmlichen Kupferkabeln. Hier kommt der Siliziumphotonik-Technologie eine entscheidende Rolle zu: Sie ermöglicht höhere Datenraten und sorgt für eine Leistungssteigerung bei Glasfaserkommunikationsnetzen, um breitbandige,power Verbindungen für modernste Rechenzentrumsprodukte zu ermöglichen.
GF-Webinarreihe für Unternehmen: GF an der Spitze der Revolution in den Bereichen Photonik und Verpackung
Dieses Webinar zeigt, wie unsere differenzierten Plattformen und leistungsstarken Verbindungstechnologien den Anforderungen an immer höhere Geschwindigkeit, Effizienz und Skalierbarkeit für Daten- und Konnektivitätsanwendungen der nächsten Generation gerecht werden.
Skalieren Sie Ihre Designs mit unserem bewährten Partner-Ökosystem
Unser umfangreiches Netzwerk ist Ihr Zugang zu durchgängigen, auf Photonik spezialisierten Partnern, die sich mit modernsten Photonik-Prozessen – von der Fertigung bis zur Glasfaser – bestens auskennen und auf Ihre individuellen Systemanforderungen zugeschnitten sind.
Durchbruch bei abnehmbaren Glasfaserverbindungslösungen auf Wafer-Ebene mit SENKO
Erfahren Sie, wie wir die skalierbare Siliziumphotonik vorantreiben, indem wir unsere Prozesstechnologie mit den integrierten SEAT™- und MPC-Lösungen von SENKO Advanced Components kombinieren. Diese Zusammenarbeit ermöglicht eine präzise mechanische Ausrichtung, Ablösbarkeit und wiederholbare optische Kopplung – vom Test auf Wafer-Ebene bis hin zu verpackten photonischen Modulen. Dies unterstützt die frühzeitige Identifizierung von „Known Good Die“, eine verbesserte Fertigungseffizienz und einen praktikableren Weg zu gemeinsam verpackter Optik in großem Maßstab.
Ausbau der optischen Konnektivität der nächsten Generation in Zusammenarbeit mit Corning
In Zusammenarbeit mit Corning erweitern wir die Grenzen der Photonik für CPO-Architekturen der nächsten Generation, indem wir unsere Silizium-Photonik-Technologie mit den auf Glaswellenleitern basierenden Lösungen von Corning für abnehmbare Glasfaserverbinder kombinieren. Diese Partnerschaft ermöglicht eine abnehmbare, verlustarme optische Kopplung mit hoher Bandbreite, die mit unserer V-Groove-fähigen Photonik-Plattform kompatibel ist – und sorgt so für mehr Flexibilität, Wartungsfreundlichkeit und einen skalierbaren Weg hin zu Co-Packaged-Optics für KI-Rechenzentrumsanwendungen.
Häufig gestellte Fragen
Steckbare optische Komponenten bieten Modularität, etablierte Standards und eine einfache Implementierung, während CPO durch die Verringerung der elektrischen Verbindungswege eine höhere Bandbreitendichte und power verbesserte power ermöglicht. Unsere Siliziumphotonik-Technologie unterstützt beide Ansätze und ermöglicht es Kunden, bereits heute steckbare Komponenten einzusetzen und gleichzeitig den fortlaufenden Übergang zu CPO-Architekturen zu vollziehen, sobald sich die Systemanforderungen weiterentwickeln.
- Unterstützung für steckbare optische Komponenten: Unsere in der Produktion bewährte Prozesstechnologie für Siliziumphotonik ist sofort einsatzbereit und unterstützt sowohl die passive Faserverbindung als auch die Integration von Bariumtitanat (BTO) für Standard-Steckmodule sowie LPO- und LRO-Module.
- CPO-Unterstützung: Wir bieten kupferkompatible Funktionen wie Cu-Pads und μ-Pillars, eine fortschrittliche Integration von Siliziumphotonik mit SiGe Unterstützung für CWDM- und Multi-λ-DWDM-Architekturen. Diese Funktionen bilden die Grundlage unserer SCALE-CPO-Lösung, der branchenweit ersten OCI-MSA-kompatiblen Plattform, und sind sowohl für Scale-up- als auch für Scale-out-Rechenzentrumsmodelle optimiert.
Über unser „Advanced Packaging and Photonics Center“ (APPC) in Malta, New York, sowie unser Kompetenzzentrum für Forschung und Entwicklung im Bereich Advanced Packaging in Singapur bieten wir Verpackungs-, Montage- und Testdienstleistungen für die Siliziumphotonik an.
Erfahren Sie mehr über unsere Zentren für fortschrittliche Verpackungstechnologien
Unsere Siliziumphotonik-Technologie liefert nachweislich 100–200 G/λ, je nach Generation, wobei die Bauteilbibliotheken 56–112-Gbaud-Klassen unter Verwendung von RF-CMOS der 300-GHz-Klasse unterstützen.
Durch die abnehmbare Faserbefestigung wird die optische Baugruppe von der Waferbearbeitung getrennt, was die Herstellbarkeit, Testbarkeit und Wartungsfreundlichkeit über alle Produktionsabläufe hinweg verbessert. Da dadurch verschiedene Ansätze zur Faserbefestigung ermöglicht werden, erhalten Systementwickler zudem mehr Flexibilität bei der Anpassung von Gehäusen, Formfaktoren und Bereitstellungsmodellen, wenn optische Architekturen skaliert werden. Unsere internen Kompetenzen und unsere Partner im Ökosystem unterstützen sowohl die direkte als auch die abnehmbare Faserbefestigung, einschließlich der Befestigung mittels V-Nut und skalierbarer Gehäusefertigungsabläufe.
Wir bieten skalierbare 300-mm-Fertigung in unseren Werken in Malta, New York und Singapur an – wobei in unserem neu hinzugekommenen Werk in Singapur nun auch 200-mm-Fertigung verfügbar ist.
Standards und Multi-Source-Vereinbarungen (MSAs) tragen dazu bei, die Anforderungen an Geräte, Systeme und Gehäuse im gesamten Photonik-Ökosystem zu harmonisieren, wodurch Risiken verringert und die Einführung beschleunigt werden. Wir unterstützen aktiv die Bemühungen um Industriestandards, darunter Initiativen im Rahmen des Optical Compute Interconnect Multi-Source Agreement (OCI MSA), um sicherzustellen, dass unsere Silizium-Photonik-Plattformen interoperabel und skalierbar sind und für optische Architekturen der nächsten Generation gerüstet sind.
Neben KI und Cloud-Infrastruktur eignet sich unsere Siliziumphotonik-Technologie besonders gut für Anwendungen wie Hochleistungsrechnen, LiDAR, industrielle Automatisierung, Sensorik und neue optische Rechnerarchitekturen, bei denen hohe Bandbreite und Energieeffizienz von entscheidender Bedeutung sind
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